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徕卡低真空镀膜仪 Leica EM ACE200

产品详情

品牌: 徕卡

型号: EM ACE200

产品简介

样品进行扫描电镜观察前,通常需要对其表面镀一层金属膜,以便减少观察时产生的荷电,并增强二次电子或背散射电子信号,获得更好的信噪比。

Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪,可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能,或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求,也可用于X-射线能谱及波谱分析,或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等全过程,一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制,简单方便。

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技术参数

· 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式,或者双模式,可选辉光放电(用于网格表面亲水化)

· 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式,可精确控制碳膜厚度

· 可选石英膜厚检测器,精确控制镀膜厚度,精度达0.1nm

· 全自动程序控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等过程

· 触摸屏控制,简单方便

· 真空度­7×10-3mbar

· 溅射电流:0-150mA可调

· 方形样品仓专利设计,样品仓尺寸:140mm(宽)×145mm(深)×150mm(高)

· 工作距离调节范围:30mm-100mm